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2010年02月03日

「&Tech」社が、セミナー「産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と危険性、リスク対策」を実施

&Tech」社が、セミナー「産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と危険性、リスク対策」を実施するとのこと。

EICネット[環境イベント情報 - 産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と危険性、リスク対策]

上記リンク先記事によると、このセミナーの詳細は、

・対象者:
 ・液晶パネル
 ・薄膜系太陽電池
 ・半導体チップ
 等の製造関係者、また産業用ガスに関係する方

・講演内容
 (第1部)
  ・講師:金子晃治氏(大陽日酸エンジニアリングの技監)
  ・テーマ:「太陽電池」製造用ガスの特性主要ガスの危険性(毒性・爆発性など)と取り扱い
  ・主旨:
   太陽電池製造に用いられる種々のガスの
   ・危険性
   ・安全な取り扱い
   について、事故例や実験データに基づいて解説を行う。
  ・内容:
   1.高圧ガスの危険な性質(概要)
   2.高圧ガスの供給設備
    2.1.一般高圧ガス
    2.2.特殊高圧ガス
   3.高圧ガスを安全に使うには
   4.高圧ガスの危険性(事故例から教訓を考える)
    4.1.物理的:高圧、透過、重さ
    4.2.化学的:可燃性、自然性、支燃性、毒性、腐食性、窒息性
    4.3.SiH4(モノシラン)の各種実験データからの考察
   その他質疑応答・名刺交換

 (第2部)
  ・テーマ:産業用ガス(三フッ化窒素を中心)の基本特性と産業に与える影響、技術的打開策
  ・講師:田坂明政氏(同志社大学・理工学部機能分子・生命化学科教授)
  ・キーワード:
   1.クリーニングガス
   2.NF3ガスプラズマエッチング
   3.NF3ガスの安全性
  ・主旨:
   ・三フッ化窒素(NF3)の歴史
   ・アルミ電解やフッ素電解で起こる陽極効果とNF3の研究始まりとの関連
   ・NF3の物理化学的特性
   ・NF3の化学的反応とドイツ・ゲッティンゲン大学でのフォスファゼン合成
   ・半導体産業関連への応用を考えた背景とその経緯
   ・化審法問題と水ヘの溶解度
   ・各社のNF3製造方法と各製造法の特徴、安全性およびその取り扱い
   ・今後の応用開発等
   について講演する。
  ・内容:
   1.はじめに
   2.NF3の物性
    2-1.物理化学的性質
    2-2.水への溶解度
   3.NF3の化学反応
    3-1.無機化合物との反応
    3-2.有機化合物との反応
    3-3.加水分解反応
   4.NF3の製造方法
    4.1.エアープロダクツ法
    4.2.セントラル硝子法
    4.3.溶融塩電解法(三井化学法)
   5.NF3の用途と現状
    5.1.半導体用ガスへの応用-他のガスとの比較
    5.2.クリーニングガスへの応用
    5.3.今後の応用(例:NF3プラズマによるSiCの平滑化)
   6.NF3ガスの安全性(毒性や爆発限界組成)
   その他質疑応答・名刺交換

・会場:同志社大学 東京オフィス(東京都千代田区)

・日時:平成22年3月25日、13:00〜16:15

・定員:30名 

・聴講料:1名あたり42,000円(税込、テキスト費用・お茶代含む)
 初めて申込みする人は、1名あたり38,500円(税込、テキスト費用・お茶代含む、要・無料会員登録)

等となっています。


今回のセミナーは業界に直接携わる人向けとなっているようですが、太陽電池製造に用いられる素材等の安全性・危険性については、太陽電池の市場拡大・需要増加が推進される中、今後は一般にも広く情報が行き渡る可能性があるのでは、と考えます。


※参考
・Tech-zone 会員管理センター/商品詳細 【3月25日】『産業用ガス(NF3、モノシラン等)の基本特性と危険性、リスク対策』
 http://ec.techzone.jp/products/detail.php?product_id=405

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posted by 管理人 at 12:41 | Comment(0) | ガス(モノシランなど)
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