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2013年10月03日

Applied Materialsが結晶シリコン型セル生産用の次世代「Solion XP Ion Implant System」を発表、n型セル生産にも対応

Applied Materials社が2013年9月30日に、結晶シリコン型セル生産用の次世代システム「Solion XP Ion Implant System」を発表していました[1][2]。

システムの主な特徴は下記の通り。

  • 収率と生産コストの改善
    in-situ patterned dopingにより、収率低減につながる幾つかの生産工程を排除。
    収率アップと生産コスト低減を実現する。
    (※動画[2]では「ウエハーあたりのコスト50%減」との表記がある)
  • 高い処理能力
    精密なスキャニングアーキテクチャとスケーラブルな設計により、1時間あたり3,000枚以上のウエハーを処理できる。
  • 高い拡張性
    2次元の精密パターニング能力により、現在業界で進んでいるn型セルへの移行にも対応できる。
    ※n型セルでは、
     ・現在主流のp型セルより長寿命
     ・セル変換効率20%以上
     との長所が見込まれている。
     他方で大量生産においては、生産工程の排除・プロセスのシンプル化のために
     ・精密なパターニング
     ・ホウ素の高品質なドーピング
     等の高度な技術力が要求される。
  • 生産の安定性
    上記機能と
    ・閉ループ制御
    ・複数パスの垂直走査アーキテクチャ
    により、ウエハー間でのビニングや収率の再現性を可能にする。

同社の製品は既に、多くの太陽電池生産者に採用されているとのことなので、その点では今回の新システムも導入がしやすく、結晶シリコン型太陽電池モジュールの更なる価格ダウンにつながる可能性が高そうです。

更に、ドーピングのパターンが複雑なn型セルの生産にも対応できるとのことで、モジュール製品の今後の継続的な性能アップにも、大きな寄与が期待できるのではないでしょうか。

薄膜型向けシステム(SunFab)から撤退し、事業を絞ったアプライド社が、結晶シリコン型向けにおいて、着実に技術を進歩させていることが伺える気がします。


※参照・参考サイト:
[1]Applied Materials’ Next-Generation Solion XP Ion Implant System Enables Higher Efficiency Solar Products with Improved Overall Yield(Applied Materials社)
http://www.appliedmaterials.com/newsroom/news/applied-materials-next-generation-solion-xp-ion-implant-system
[2]Applied Solion XP Ion Implanter(同上)
http://www.appliedmaterials.com/technologies/library/applied-solion-xp-ion-implanter

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